?2017 年 7 月 4 日-7 日，第 24 屆 IPFA 會議在四川成都盛大舉行，飛納電鏡攜飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX 出席了此次會議。

IPFA 是有關半導體物理分析、失效分析及可靠性方面學術水平zui高、規模zui大、影響zui廣的會議，IPFA 是 International symposium on the physical & failure analysis of integrated circuits 的簡稱，中文全稱集成電路物理與失效分析會議。1987 年，首屆 IPFA 會議由 IEEE 失效分析分會在新加坡舉辦，2001 年之前，IPFA 會議每兩年舉行一次。2002 年起每年舉行一次。IPFA 已經發展為舉足輕重的可靠性與失效分析會議組織。在美國，相應的會議為 IRPS（可靠性物理會議）和 ISTFA（測試與失效分析會議）；在歐洲，相應的會議為 ESREF（歐洲電子器件可靠性與失效物理分析會議）。本次 IPFA 會議，飛納臺式掃描電鏡操作簡單，快速方便，成像清晰，能譜靈敏，設計精巧給來訪者留下了深刻的印象。

飛納電鏡應用工程師現場給來訪者展示樣品測試

飛納電鏡內部集成彩色光學顯微鏡全景導航（右上角）

由于半導體器件體積小、重量輕、壽命長、功率損耗小、機械性能好。因而適用的范極廣。然而半導體器件的性能和穩定性在很大程度上受它表面的微觀狀態的影響。一般在半導體器件試制和生產過程中包括了切割、研磨、拋光以及各種化學試劑處理等一系列工序， 正是在這些過程中，會造成表面的結構發生驚人的變化，所以幾乎每一個步驟都需要對表面進行檢查，而生產大型集成電路就更是如此。目前，掃描電鏡在半導體中的應用已經深入到許多方面。

飛納臺式掃描電鏡 15 秒抽真空，30 秒成像，大大提高了半導體器件的檢測效率。操作比光學顯微鏡簡單，相對于傳統落地式掃描電鏡能更快地得到掃描電鏡圖像結果。飛納電鏡使用長壽命 1500h，高亮度（是鎢燈絲亮度的 10 倍），低色差的 CeB6 燈絲，圖像信號充足。

飛納電鏡拍攝的集成電路內部 放大倍數 20000x

飛納電鏡拍攝的集成電路內部 放大倍數 50000x

飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數 5000x

飛納電鏡拍攝的微機電電路 放大倍數 10000x

飛納電鏡拍攝的 LED 芯片截面 放大倍數 70000x

飛納電鏡公司及產品介紹

感謝本次第 24 屆 IPFA 會議，為半導體行業的工作者和飛納電鏡筑起了一座橋梁，讓很多半導體行業的工作者全面了解飛納電鏡的使用方法及性能，也讓飛納電鏡的工程師了解了半導體行業的研究熱點與方向。