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      第七代飛納臺式掃描電鏡能譜一體機

      更新時間:2025-12-12
      產品型號:Phenom ProX G7
      所屬分類:臺式掃描電鏡
      描述:加快材料研究的突破性進展,您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第七代飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 引入了全新一代操作系統,通過改進光路設計,將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升級,易于操作,元素分析更快速。
      詳情介紹

      第七代飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX


      • 產品特點:

      • 第七代飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX—— 智能、GX、能譜電鏡一體化
        放大倍數:350,000×
        分辨率:優于 6nm@10kV
        電子槍:3,000 小時 CeB6 燈絲
        抽真空時間:小于 15 秒
        能譜儀EDS元素分析功能
        拓展功能:3D粗糙度重建、纖維統計測量,高倍拼圖等


      第七代飛納臺式掃描電鏡能譜一體機

      • 產品詳情:

      • Phenom ProX G7飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 

        產品性能

        飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX 同時具備樣品表面微觀形貌觀測(SEM)和表面元素成分點、線、面分析(EDS)。作為業內成熟的一體化 SEM-EDS 系統,飛納電鏡將電鏡和能譜在生產環節深度集成,設備出廠即完成匹配調校,后期通過同一個軟件平臺即可完成成像與能譜分析,降低學習成本,提高上機效率,技術支持流程也更加高效。
        適用于材料科研、鋰電池正極負極材料分析、半導體失效分析、粉末冶金、科研院校共享平臺以及企業質量控制實驗室。

        Phenom ProX 曾榮獲 2012 年全//球新產品獎,是臺式掃描電鏡能譜一體化領域的重要里程碑。其亮度10 倍于鎢燈絲的 CeB6 燈絲不僅顯著提升成像分辨率,也使表面元素分析更加準確穩定。在背散射(BSE)成像中,不同灰度對應不同原子序,搭配 SDD 探頭,可實現 5–95 號元素的點、線、面分布分析,滿足科研及工業用戶的精準需求。

        Phenom ProX 延續飛納系列的智能化設計,具備全自動操作、15 秒快速抽真空、不噴金觀察絕緣體、平均 5 年更換燈絲等優勢。設備無需防震臺,可直接放置在普通實驗室、辦公室或廠房環境中。EDS 模塊采用一體化結構,無需外接部件、無需液氮冷卻,真正實現“即開即用"的臺式場景友好型 SEM-EDS。

        產品參數

        光學顯微鏡: 20–135×
        電子顯微鏡: 350,000×
        探測器: 高靈敏度四分割背散射電子探測器,能譜探測器
        燈絲材料: 3,000 小時 CeB6 燈絲
        分辨率: 優于 6 nm @10 kV
        放置環境: 專業防震設計,可在普通實驗室、辦公室、廠房環境使用
        加速電壓:

        • 基本模式:2 kV / 5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV

        • 高級模式:4.8–20.5 kV 連續可調,用于成像與元素分析

          抽真空時間: <15 秒
          元素分析范圍: B(5)– Am(95)
          能譜探測器: SDD 硅漂移探測器
          冷卻方式: Peltier 無液氮電制冷
          選配: 支持全系列樣品杯,支持所有軟件拓展模塊(自動顆粒分析、自動金屬夾雜物分析、纖維分析、形貌統計等)

          適合科研院校共享平臺、材料研究所、地質與礦產分析實驗室、企業質檢中心和生產線質量管理等多種應用場景。



          復納科學儀器(上海)有限公司負責荷蘭飛納臺式掃描電鏡在國內市場的推廣、銷售及全流程技術支持。飛納建立了從售前測試、用戶培訓到售后保障的完整體系,在 上海、北京、廣州均設有測試中心和服務中心,滿足華東、華北、華南不同地區用戶需求。

          飛納 ZG 提出了飛納學校(Phenom University)的培訓體系,從 SEM 基礎知識到高級 Level 5 應用工程師課程,幫助科研團隊、企業工程師快速掌握自動化掃描電鏡與能譜分析技能。目前飛納在國內擁有接近 2000 名用戶,覆蓋材料科學、電子封裝、鋰電池、金屬冶金、地質礦物、半導體檢測等眾多領域。

          作為國際智能化臺式掃描電鏡品牌,飛納電鏡正逐步成為 國內市場科研機構與企業實驗室的主流選擇之一,適用于對成像速度、空間環境要求、自動化程度和設備穩定性有更高需求的用戶。






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